PREVAC MBE系统 沉积系统 分子束外延 离子源 单晶的薄膜沉积 原子层沉积 真空镀膜

微型MBE系统 一种简单且功能齐全的 Mini MBE 系统用于薄层的外延生长。即插即用的紧凑设计。 如果您需要高质量的沉积工艺,并结合低运行成本的设计和小尺寸的设备,那么这就是答案。该装置非常适合在研发装置中快速测试新材料和技术。 分子束外延系统适用于来自 III/V、II/VI 族以及其他异质结构等的元素的生长。

标准MBE系统 PREVAC 独立式 MBE 系统包括一个沉积工艺室和一个负载锁定室,可方便快速地加载基板。它适用于 III/V、II/VI 族元素以及其他异质结构等的生长。 可提供底部法兰可更换的系统设计。使用专门设计的手推车可以轻松更换整个法兰,因此为您的研究提供了各种不同的离子源配置和选项。  

高级MBE系统 用于薄层生长技术的先进多腔室平台,旨在与其他表面科学技术、辅助实验室设备和任何附件实现最大兼容性。  多功能的模块化设计允许轻松扩展平台并与任何其他沉积、分析或制备HV/UHV单元集成,例如通过径向分配或隧道转移系统。  它用于单晶的薄膜沉积,并具有磁特性、形貌、晶体学、薄膜厚度等的原位表征。

iMBE系统 全自动MBE硬件设置用于薄膜生长,例如用于半生产和用户方便的非常高质量原子层的沉积。 iMBE 系统用于单晶的薄膜沉积,具有磁特性、形貌、晶体学、薄膜厚度等的原位表征功能。

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