美国 Kimball Physics 电子枪 电子束发生系统 EMG-4210 EGPS-4210

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描述: 可聚焦高能电子束,光斑尺寸小至100μm 1keV至30keV 应用: 普通真空物理学 辐射研究 地面轰炸 半导体研究 X射线生成 等离子体激发 荧光研究 表面物理研究 功能/选项: 光斑尺寸低至100μm 束电流高达5mA 静磁聚焦 可选的静磁束整形 静磁偏转 脉冲能力 操作过程中的内部对齐 用户可更换的射击装置 能量范围:1keV至30keV 束流:10µA至5mA* 光斑尺寸:100µm至10 mm 安装:2.75英寸(2¾)CF *更高的电流选项可用。 带有匹配EGPS-4210电源的EMG-4210电子枪是一个完整的子系统,可以连接到用户的真空系统。它可以在50毫米至1000毫米的工作距离内,在广泛的能量、电流和功率范围内输送电子。磁性定心和可选的整形线圈提供了额外的束控制,使用户能够偏转和整形电子束。应用包括空间材料测试、辐射研究、半导体研究、x射线产生和等离子体激发。 电子枪系统使用单晶六硼化镧(LaB6)阴极来产生高能、可聚焦、小点电子束。束能量和束电流都可以在宽范围内独立调节,能量从1keV到30keV,电流从10μA到5mA。电子束可以通过控制栅极的输入信号进行脉冲。 枪的可调光学元件可以适应不同的发散和一系列的工作距离,适用于各种应用。磁聚焦透镜的光斑尺寸可以从10毫米到100微米不等。磁性定心和可选的整形线圈提供了额外的束控制,允许用户偏转和整形电子束。整形通常会产生椭圆光束,其中两个轴都可以独立压缩或延伸。此外,阴极到阳极的间距可以在内部调节,以改变导电性。 该枪具有可调节的阴极馈通组件,允许点火单元相对于阳极和柱进行机械对准。这种对准可以在枪在光束打开的情况下实时完成。  

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