蒸发源 系列：Hanks

Hydra™ Static 系列通过有效利用空间，提供复杂的共沉积工艺和四种或更多不同材料的共蒸发。独特的模块化磁性设计可产生更高效的电子束。Hyper-Unimelt 200 Hz 扫荡消除了隧道和源材料喷发。插入式发射器组件和扫描线圈组件使源更易于维护。

Hydra™ Static 系列通过有效利用空间，提供复杂的共沉积工艺和四种或更多不同材料的共蒸发。独特的模块化磁性设计可产生更高效的电子束。Hyper-Unimelt 200 Hz 扫荡消除了隧道和源材料喷发。插入式发射器组件和扫描线圈组件使源更易于维护。

灯丝对准简单，电子准直效率更高，灯丝变形最小，无需电子试验。非常适合共蒸发！

专利：4,835,789;4,891,291;4,947,404

·同时操作六 （6） 种不同的材料（可根据要求提供额外的坩埚设计） ·全金属密封，完全兼容 UHV，测量极限压力：2×10-11 Torr。 ·Hydra™ 消除了相邻源的交互 ·获得专利的磁性设计允许靠近源，以实现均匀的涂层和材料相互作用 ·每个坩埚源都独立进行水冷，以防止蒸汽积聚 ·每个源坩埚都有单独的扫描线圈，确保每个源的独立操作完整性，消除来自相邻源的串扰推理 ·可拆卸的坩埚烟囱设计，便于清洁沉积物堆积物 ·H2O 冷却发射器底板和坩埚 ·提供 10kW 或 15kW ·坩埚体积尺寸：10cc、15cc、40cc（可根据要求提供定制尺寸） ·270° 光束偏转，灯丝外壳可隔离任何颗粒暴露 ·提供动态坩埚设计 ·易于拆卸的发射器组件设计 ·Thermionics 的 Hyper-Unimelt Sweep 设计（低速率或高速率的最佳控制） ·提供水平和垂直源法兰安装设计

• 消除光束卷曲

• 源附带 UHV 额定扫频线圈 （200 Hz）

• 消除极片

• 轻松对线

• 更高效的电子准直

• 最小的细丝变形

• 消除电子尾

• 全封闭发射器组件可防止颗粒

建设

• 每个源都是独立的水冷式

• 旨在消除串扰干扰