Bar Carbon 硅化碳涂层 石墨基片

Bay Carbon在生产用于化学气相沉积（CVD）工艺的高纯度等静压成型石墨基片方面拥有超过40年的经验。所有用于基片应用的石墨均采用贝碳公司专有的净化技术进行净化，并通过直流弧光光谱（DC Arc optical emission spectroscopy）测试，以确保其纯度符合半导体应用的要求。石墨基片产品还可以提供具有与化学气相沉积（CVD）硅化碳（SiC）保护涂层相匹配的热膨胀系数。每个涂有SiC的石墨基片都被包装在密封的无尘室兼容的塑料袋中，并且单独装在防护箱内运输。 贝碳公司专注于与客户合作，生产用于CVD基片的定制设计。基片可以设计用于CVD硅外延、III-V族外延和III-氮化物外延。请联系贝碳公司以了解您的基片需求。

关于贝碳公司（Bay Carbon, Inc.）

贝碳公司是一家领先的独立硅化碳涂层石墨、高纯度精密加工石墨制造商，专注于半导体制造的硅、太阳能硅、CMOS和MOCVD领域。我们提供一整套用于工业和学术界的高纯度实验室石墨和石墨粉产品。
贝碳公司（Bay Carbon Inc.）致力于研发项目的发展，以促进碳材料技术的进步。作为领先的石墨、石墨粉和石墨产品制造商，我们优先考虑提供技术，以改善客户的产品质量。我们目前的项目包括化学气相沉积（CVD）工艺和石墨烯技术的前驱体。

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Bar Carbon 硅化碳涂层 石墨基片

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