Harrick 低温反应室 CHC-CHA-5，CHC-VUV-5, 工作温度范围-150°C to 600°C（真空下），非常适合在精确控制的温度和压力下研究多相催化、气-固相互作用、光化学反应和氧化机制方面的应用

Harrick 低温反应室 漫反射光谱是一种非常灵敏的方法，用于检测粗糙材料表面上的变化。它对表面积较大的粉末特别有效。这使得漫反射在研究多相催化、气-固相互作用、光化学反应和氧化机制方面非常有价值。Harrick 低温反应室非常适合在精确控制的温度和压力下进行此类研究。Harrick 低温反应室允许在广泛的控制温度和压力下进行漫反射测量，并与用于傅里叶变换红外光谱（FT-IR）和紫外-可见漫反射光谱（UV-Vis）的Praying Mantis附件配合使用。 Praying Mantis™ Low Temperature Reaction Chambers Harrick 低温反应室标准配置： » 反应室。 » 低电压加热元件。 » K 型热电偶。 » 样品包装工具和溢出托盘。 » 带有两个 KBr 窗口和一个玻璃观察窗的穹顶（FTIR 配置）。 » 带有两个 SiO2 窗口和一个玻璃观察窗的穹顶（UV-Vis-NIR 配置）。 搭配组件：

（1）Praying Mantis 漫反射装置

Praying Mantis™ Diffuse Reflection Accessory

（2）Temperature controller 温控仪ATK-024-6

Temperature Controller   [pdfjs-viewer url="https%3A%2F%2Fwww.bihec.com%2Fharrick%2Fwp-content%2Fuploads%2Fsites%2F173%2F2024%2F07%2FCHC%E4%BD%8E%E6%B8%A9%E5%8F%8D%E5%BA%94%E5%AE%A4-CH-V1.pdf" viewer_width=100% viewer_height=1360px fullscreen=true download=true print=true]  

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Harrick 低温反应室 CHC-CHA-5，CHC-VUV-5, 工作温度范围-150°C to 600°C（真空下），非常适合在精确控制的温度和压力下研究多相催化、气-固相互作用、光化学反应和氧化机制方面的应用

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