Harrick 高温反应室HVC-DRM-5,非常适合在精确控制的温度和压力下进行多相催化、气固相互作用、光化学反应和氧化机制等研究

Harrick 高温反应室 Praying Mantis™ High Temperature Reaction Chambers Harrick 高温反应室特别适用于具有高表面积的粉末。这使得漫反射成为研究多相催化、气固相互作用、光化学反应和氧化机制的宝贵工具。Harrick 高温反应室非常适合在精确控制的温度和压力下进行这些研究。HVC-DRM-5高温反应室应用允许在控制的压力和广泛的温度范围内进行漫反射(DRIFTS)光谱测量。它与Praying Mantis™附件一起用于FT-IR和UV-VIS漫反射光谱学。

Harrick 高温反应室特点: 设计用于从高真空(133 μPa或10-6 torr)到133 kPa(1 ktorr)使用KBr窗或1.5 MPa(11.3 ktorr)使用ZnSe窗的操作。 在真空条件下可达到910°C的温度。 可选高压穹顶结构,适用于高达3.44 MPa(25.8 ktorr)的操作。 提供三个进出口端口,用于抽真空和引入气体。 采用耐化学腐蚀的316不锈钢制成。 可选择Silcotek/Restek惰性涂层,提供更高的惰性和耐腐蚀性。 可选冷却装置,适用于使用冷却器或循环器进行适度冷却或加热。 提供适用于电化学的适配器,支持两、三或四电极配置。 可提供用于微光谱学应用(包括拉曼)的替代窗组件。

Harrick 高温反应室包括: 反应室。 低压加热芯。 K型热电偶。 FKM氟橡胶(等同于Viton)O形圈。 样品装填工具和溢出托盘。 穹顶结带有两个KBr或ZnSe窗口和一个玻璃观察窗(FTIR配置)。 穹顶带有两个SiO2窗口和一个玻璃观察窗(UV-Vis-NIR配置)。

(1)Praying Mantis 漫反射装置

Praying Mantis™ Diffuse Reflection Accessory

(2)Temperature controller 温控仪ATK-024-6

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