美国 UNIVERSITY WAFER D263 研究和生产的玻璃晶圆

美国 UNIVERSITY WAFER D263 研究和生产的玻璃晶圆 研究人员使用 D263 玻璃片劈裂模型研究了基于热应力断裂的原理。计算了材料中的热应力。通过实验研究考察加工参数,切割厚度为 300 μm 的 D263 玻璃板,获得表面粗糙度为 0.5 nm 的微无裂纹边缘。所提出的工艺还应用于切割 X 射线望远镜镜头基板,无微裂纹。与金刚石划线和激光切割相比,所提出的方法降低了资本成本,并产生了玻璃的无损切割表面。该技术可应用于制造玻璃产品(即透镜、太阳能电池、玻璃屏幕)。

D263 用于二氧化硅沉积的玻璃基板

研究人员使用 D263 玻璃基板进行二氧化硅沉积和缓冲氧化物蚀刻工艺。这些工艺的加工温度通常约为 400°C。 UniversityWafer, Inc. 提供:

我们的客户将我们的 Schott D263 玻璃用于以下应用: D263 不适合在高达 900 摄氏度、500 摄氏度以上的温度下使用。但是,您不能冲击材料,否则它会破裂。它必须逐渐加热。但是熔融石英会起作用。 150mm D263 玻璃晶圆 \ 应变点 529°C \ 软化点 736°C 厚度:675um。0.550 毫米是最接近的 D263 可用

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