离子枪系统

Kimball Physics 离子枪系统或离子源用于表面物理、空间物理、真空物理、电荷中和、检测校准、二次离子质谱和 MBE 的离子注入。

操作范围：

  • ● 能量范围：10eV 至 20 keV
  • ● 射束电流范围：1 nA 至 2 μA
  • ● 光斑尺寸范围：500 μm 至 25 mm

优势：

  • ● 灵活的控制器：独立的光纤控制和计量功能，如离子能量、源、电子能量、场控制、提取、聚焦、X-Y偏转和电子电流控制
  • ● 碱金属离子源的选择允许不同的离子种类

性能：

  • ● 射束电流稳定性：使用发射电流控制时每小时 ±1.0% 或对于碱金属源在没有 ECC 的情况下预热后每小时 ±10%
  • ● 能量稳定性：每小时 ± 0.01%，满输出时每 8 小时 ± 0.02%

应用：

  • ● 快速电容光束或双栅极脉冲
  • ● 偏转/光栅
  • ● 枪式法拉第杯

离子枪