Quantum Northwest qX2 比色皿控温支架,测量吸收光谱用,标准温度0°C到110°C
qX2是一个温度控制的比色皿控温支架,带有两个光学端口,用于吸收光谱或可使用这两个端口执行的实验。这是完全由用户安装和修改的最便宜的版本。使用qX2 比色皿控温支架设置并保持精确的样品温度,并以稳定的可重复速率搅拌,同时将反应杯浸泡在受控的气体环境中。尽管依赖于快速、精确的帕耳帖技术,但从0°C到110°C的正常运行不需要循环水。 购买低温选项,包括带窗护套和液体冷却功能,从0°C到-35°C操作qX2 比色皿控温支架。 购买扩展温度选项,将操作扩展到110°C到150°C以上。使用TC 1B温度控制器控制qX2 比色皿控温支架。 对于额外的控制和温度监控,请使用Quantum Northwest的计算机控制软件T-App。 qX2 比色皿控温支架产品特点: 快速、精确的帕耳帖温度控制 精密步进电机驱动磁力搅拌 低温工作用干气吹扫 提高温度稳定性的盖子 安装窗口或过滤器的螺纹插入件 控制照明体积的光学狭缝夹持器 用于移除反应杯的反应杯升降器 样本温度探头输入 NIST可追踪温度校准
qX2 比色皿控温支架技术规格: 控制比色皿数:1 应用:吸收光谱 标准比色皿尺寸(外部)12.5 mm x 12.5 mm 每个比色皿的光学端口:2个 光学端口尺寸:12 mm高x 10 mm宽 比色皿z高度15 mm 提供有窗护套:有 工厂设定温度范围:-40°C至+110°C 容易达到的温度范围:-5°C至+110°C 低温选项范围:-35°C至+110°C 扩展温度选项范围:-35°C至+150°C 温度精度±0.02°C 接受热敏电阻探头:探头/QNW3 磁力搅拌电机类型:步进电机 磁搅拌转速范围:1-2500rpm 默认搅拌速度:1200 rpm qX2 比色皿控温支架基本包装: qX2 比色皿控温支架 TC 1B–温度控制器 NIST可追踪校准和性能数据 磁力搅拌棒、干气管道和电缆 搅拌速度最佳性能:60-1800 rpm qX2 比色皿控温支架可选配件: T-App /E-qX2 – High temperature option for qX2 /L-qX2 – Low temperature option for qX2 SLITS/qX2 Probe/10k-qX询价采购Quantum Northwest qX2 比色皿控温支架,测量吸收光谱用,标准温度0°C到110°C
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