瑞士idonus sàrl UV-LED 曝光系统 高功率 UV-LED + 全远心光学系统，覆盖最大 600×600mm 曝光面积，不均匀度低至 3%
瑞士idonus sàrl UV-LED 曝光系统 高功率 UV-LED + 全远心光学系统，覆盖最大 600×600mm 曝光面积，不均匀度低至 3% 咨询热线 15821107090
告别汞灯时代 idonus UV-LED 曝光系统
高功率 UV-LED + 全远心光学系统，覆盖最大 600×600mm 曝光面积，不均匀度低至 3%
3%不均匀度 C±1.0°最小准直角600mm最大曝光宽度0汞无汞环保
传统汞灯的痛点，您是否还在忍受？
⚠ 寿命短、衰减快
汞灯频繁更换，光强日衰减，每天都要校准，工艺一致性难以保障。⚠ 含汞有毒、能耗高
汞蒸气存在安全与环保合规风险，高功耗带来散热难题与高昂电费。⚠ 宽光谱、热效应大
多余波段加热基板，影响光刻胶性能，工艺重复性差。⚠ 需机械快门、维护多
机械快门磨损、响应慢，系统维护成本高、停机时间长。idonus UV-LED 六大核心优势
🎯
极致均匀
微透镜阵列 + 全远心光学系统，不均匀度 C < 3%，固化侧壁笔直，实现微米级关键尺寸。⏡
超长寿命
UV-LED 寿命远超汞灯，光强稳定一致，无需每日校准与维护。⚡
即时开关
仅在曝光时点亮，无需机械快门，响应极快，操作更灵活。🌿
无汞环保
零汞设计，安全无害，低能耗、低发热，冷却系统更简单。📡
窄光谱精准
365/385/395/405/435nm 可选或组合，模拟汞灯 i-line/h-line/g-line，避免多余加热。💰
低使用成本
低功耗、无耗材、免维护，全生命周期使用成本远低于传统汞灯方案。标准产品型号一览
| 型号 | 波长 (nm) | 有效曝光面积 | 辐照度 (mW/cm²) | 不均匀度 C | 准直角 αFWHM | 工作距离 |
|---|---|---|---|---|---|---|
| UV-LAB100R | 365 | Ø 100 mm | 12 (@365) | 5% | ±2° | 250 mm |
| UV-EXP150R | 365 / 385 / 395 / 405 / 435 | Ø 150 mm | 40–50 | 3% | ±1.8° | 350 mm |
| UV-EXP150S | 365 / 385 / 395 / 405 / 435 | 150×150 mm² | 40–50 | 3% | ±1.8° | 300 mm |
| UV-EXP200R | 365 / 385 / 395 / 405 / 435 | Ø 200 mm | 25–30 | 3% | ±1.4° | 400 mm |
| UV-EXP200S | 365 / 385 / 395 / 405 / 435 | 200×200 mm² | 25–30 | 3% | ±1.4° | 400 mm |
| UV-EXP300S-1LE | 365 / 385 / 395 / 405 / 435 | 300×300 mm² | 13–17 | 3% | ±1.0° | 300 mm |
| UV-EXP300S-3LE | 365 / 385 / 395 / 405 / 435 | 300×300 mm² | 40–50 (3LEDs) | 3% | ±2.5° | 300 mm |
| UV-EXP600S | 365 / 385 / 395 / 405 / 435 | 600×600 mm² | 20–30 | 3% | ±2.0° | 300 mm |
广泛的应用领域
🔬MEMS 微机电系统
💧微流控 Microfluidics
💎光子学 Photonics
🔶半导体
☀️光伏 Photovoltaic
🧪光刻胶曝光与固化
可选配件与定制服务
- UV-EXP-CU 控制单元（Gen.2） — 触摸屏界面，2021 年起全系标配，操作直观便捷。
- UV-SENS-GaP 传感器 — 磷化镓光电二极管，精确辐射测量辐照度，可外置或内嵌。
- 波长定制 — 单一波长或混合波长配置，灵活匹配不同光刻胶工艺需求。
- 掩膜对准机改装 — 可为现有汞灯掩膜对准机提供 UV-LED 改造升级方案。
- OEM 合作 — 根据客户产品需求，定制光学模块与系统集成方案。
品质保证 — 每台出厂即附质控报告
每套系统交付时均附带 均匀性扫描报告（Michelson 对比度 C 值）与 光谱功率分布图 (SPD)，确保出厂即达标，数据可溯源。已验证兼容 AZ nLOF 2070、SU-8 (GM 1075) 等主流光刻胶，多项成果发表于 J. Vac. Sci. Technol. B、Micromachines 等学术期刊。
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