Prevac沉积系统、磁控溅射系统、032PRIMS基本MS系统

Prevac沉积系统、磁控溅射系统、032PRIMS基本MS系统

简单和全功能的溅射沉积装置，用于可复制的薄膜层的应用。 即插即用紧凑的设计.  该处理室 包含3个磁控溅射源端口(用于金属和无机物)，安装在溅射配置中。最多同时使用两个源(共沉积)基底台用于直径不超过2英寸的样品，带有加热和旋转选项。

特征

  • 插头和工作结构 
  • 易于使用的移动装置，用于快速测试和溅射涂层
  • 处理室带有l大型真空门为了容易更换目标或衬底 
  • 装有MS2 100 ISO-K磁控管源和新奇M600DC-PS电源
  • 基底台用于最多2个”直径样品
  • 处理室直径:355毫米 
  • 3个端口对于2英寸磁控管源 
  • 1个视窗–带百叶窗的观察窗 
  • 保护罩防止交叉污染 
  • 基底压力范围10-7 毫巴(millibar压力单位) 
  • 快速泵送系统随着真空计 
  • 氩气自动加药通过质量流量控制
  • A车轮上的刚性主车架便于系统的放置
  • 手动节流阀
这快速泵送系统(带手动节流阀)与小体积的处理室相结合，使您能够在短时间内达到基础压力。 这加工室配有高压标准的连接法兰，用于连接当前和未来的设备，包括: 
  • 多达3个磁控管源 2”,
  • 衬底操纵器，
  • 泵送系统m，
  • 防止交叉污染的保护罩，
  • 石英平衡，
  • 视口–带百叶窗的观察窗，
  • 真空计，
  • py罗梅特。
Applications Examples
Single and multilayer conductor films (for microelectronics and semiconductor devices)  Al, Mo, Mo/Au, Ta, Ta/Au 
Barrier layers for semiconductor metallizations  TiN, W-Ti 
Magnetics films  Fe, Co, Ni, Fe-Al-Si, Co-Nb-Zr, Co-Cr, Fe-Ni-Cr, Fe-Si, Co-Ni-Cr, Co-Ni-Si  
Optical coatings – metallic (reflective)  Cr, Al, Ag 
Optical coatings – dielectric  MgO, TiO2 , ZrO2 
Photomasks  Cr, Mo, W 
Transparent gas/vapor permeation barriers  Al2O3
Transparent electrical conductors  InO2, SnO2,In-Sn-O (ITO) 
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