美国 Lattice Electro Optics Excimer Laser Mirrors XeCl (308nm) & XeF (351nm-353nm) 准分子激光镜XeCl（308nm）和XeF（351nm-353nm）

 美国 Lattice Electro Optics

Excimer Laser Mirrors XeCl (308nm) & XeF (351nm-353nm)

准分子激光镜XeCl（308nm）和XeF（351nm-353nm）

参数
材料:  UV Fused Silica
平行度： < 3 arc min
净孔径： > 85% of central dimension
倒角： 0.3mm ´ 45°
表面形状: l/10 at 632.8nm
表面质量: 10-5 scratch-dig
能量: Up to 4J/cm2
   
Part No Diameter

Thickness

 A.O.I.
XeCl (308nm) XeF (351-353nm)
RX-308-0-UF-0525 RX-352-0-UF-0503 1.00” 0.250” 0°
RX-308-0-UF-1025 RX-352-0-UF-1025           36.0mm 5.0mm 0°
RX-308-0-UF-1538 RX-352-0-UF-1538 1.50” 5.0mm 0°
RX-308-0-UF-2038 RX-352-0-UF-2038 2.00” 0.375” 0°
RX-308-45-UF-0525 RX-352-45-UF-0503 1.00” 0.250”   45°
RX-308-45-UF-1025 RX-352-45-UF-1025           36.0mm 5.0mm   45°
RX-308-45-UF-1538 RX-352-45-UF-1538 1.50” 5.0mm   45°
RX-308-45-UF-2038 RX-352-45-UF-2038 2.00” 0.375”   45°
 

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