波兰 PREVAC 磁控溅射系统 Advanced MS systems
定制、多腔室、高精度沉积平台，采用模块化、用户友好的系统设计方法。现场均匀腔室设计结合了PREVAC和其他制造商制造的各种典型或非标准组件，实现了高质量的逐层涂层。
系统旨在与任何其他分析或沉积表面科学技术、辅助实验室设备和任何附件实现最大兼容性。使用径向分配或隧道传输系统可以与其他真空室、模块和单元集成。
模块化、用户友好的系统设计方法意味着整个系统可以通过简单地更换通用安装法兰进行重新配置，这一过程既快速又简单。
可以通过前门、自动提升的顶部法兰或通过底部法兰进入工艺室，可使用专门设计的手推车进行更换。因此，可以轻松快速地更换磁控管靶、基板支架操纵器或访问/更换整个底部法兰。顶部法兰的提升机构是电动的，并通过传感器进行充分保护。
该系统配置有适当的密封和泵送系统，以实现10^-7毫巴（带viton密封门）、5×10^-8毫巴（带有viton密封和差动泵送门）或超高压压力（不带门，带快速进入负载锁用于衬底引入）范围内的基本真空。
工艺室配有不同尺寸的超高压标准连接法兰，用于连接当前和未来的设备，包括：
磁控管源，
基板操纵器，
用于清洁、蚀刻或活化衬底表面的离子源，
泵送系统，
线性输送系统、径向分配室或输送通道的入口，
气体计量系统：工艺气体最多4条管线，以及最多4种气体的质量流量控制，
残余气体分析仪，
石英天平，
高温计，
带检测器的椭圆仪，
视口（带百叶窗的观察窗），
真空计
泵送系统是不同类型的泵的组合，例如前真空泵、离子泵、低温泵、涡轮泵或钛升华泵，根据具体应用需求单独选择以实现最佳泵送性能。
Synthesis过程控制软件允许各种类型和制造商的来源进行集成和完美合作，并实现简单的配方编写、自动生长控制和广泛的数据记录。允许基于Tango开源设备集成新的附加组件。
该系统配备了先进、易于使用的电源和电子设备，用于控制和支持电源和整个研究设备。
多室多技术沉积研究平台，具有许多有用的配置和选项
非常适合沉积金属和介电薄膜
根据来源的类型和数量，可提供不同尺寸的处理室：dst 450、dst 570和dst 715 mm（根据要求提供其他尺寸）
基本压力范围从10-7毫巴到超高压
双轴机械手，具有由固体SiC制成的稳定、长寿命的加热器元件和接收站，可实现高达1200°C的高温
具有两级接收站的机械手，用于基板支架，以满足共焦和平面磁控管配置的要求
广泛的基板支架尺寸（从10×10毫米到6英寸，其他可根据要求）和形状
提供溅射向上和溅射向下布置
在直流、射频和脉冲直流模式下运行
单独操作或以共沉积模式操作，以生产多种薄膜组合物
Ar气体质量流量控制自动加药
现场表征工具的可能性，例如等离子体发射监测器（PEM）、椭圆仪、反射仪、石英天平或高温计温度测量系统
由单个电源和开关网络提供的多个源，或由用于共沉积处理的多个电源提供
前门通道和/或装载锁定室，可快速轻松地装载基板
可以使用专用起重小车完全接近或更换带源的底部法兰
为扩展准备的模块化框架
用于样品制备的一系列解决方案，例如手套箱、样品切割机或设计用于样品加热、冷却、清洁等的设备齐全的制备室。
19“带电子单元的机柜
专用人机界面（HMI）设备，硬件易于控制和监控
Synthesis软件可对沉积过程和设备进行全面控制
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