Vac Techniche真空镀膜 桌面镀膜系统 紧凑型桌面镀膜系统 紧凑型碳纤维镀膜系统 脉冲激光桌面镀膜系统 Pulsed Laser desktop system PLD
Pulsed Laser desktop system PLD: Compact Desktop Thin Film PLD脉冲激光桌面镀膜系统
PLD：紧凑型台式薄膜PLD
脉冲激光沉积技术可实现高效、无热烧蚀，并保持目标材料的化学计量。通过应用这种方法，它可以沉积氮化物、氧化物、超晶格、聚合物、复合材料等材料。
PLD配备了一个多目标机械手，包括三个直径为2厘米的机械手。目标尺寸为标准尺寸。我们所有的目标机械手都是电动的，包括目标旋转
PLD-T：具有3个蒸发源的紧凑型台式薄膜PLD
PLD–T是一种高真空薄膜沉积系统，能够通过脉冲激光沉积和热蒸发技术沉积不同的材料。
它可以在基板上沉积复杂的材料和晶体结构，只需很少的设置。
PLD–T配备了一个多目标机械手，其中包括三个直径为2厘米的机械手。
目标尺寸为标准尺寸。我们所有的目标机械手都是电动的，包括目标旋转
热蒸发源（船/吊篮/盘管）
PLD–T配备了三个独立的耐热热蒸发源。蒸发源支架的设计避免了源材料与其他材料的交叉污染。
光源支架的长度可以在5~10cm的范围内调整，满足客户的要求。
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