瑞士idonus 带双图像显微镜的掩膜对准系统（MAS+DIM）

瑞士idonus 带双图像显微镜的掩膜对准系统（MAS+DIM）

该掩膜对准器设计用于将掩膜与基材精确对准。例如，使用阴影掩膜可以进行无光刻的薄膜沉积。一旦晶圆在掩膜下对准，两块基材将被夹在双卡盘中。夹紧基材的双卡盘随后可以插入PVD腔室进行蒸发。在沉积之后，双卡盘将分离，基材可以取出。 除了阴影掩膜之外，idonus掩膜对准器还具有广泛的应用，例如： 简便性 真空夹紧能力和三轴手动对准使得该掩膜对准器非常易于使用。 灵活性 该对准器设计用于多种晶圆尺寸和形状，无论是否为标准尺寸。idonus可根据您的需求制造卡盘。 精确性 结合显微镜，可以实现最小± 5 μm的对准公差。idonus提供其自有的双图像显微镜用于对准控制。用户可以同时聚焦并可视化两个对准位置，从而简化对准过程。 掩膜对准系统（MAS） idonus MAS掩膜对准器包含了运行对准过程所需的基本元素。 双图像显微镜（DIM） 使用idonus双图像显微镜（DIM）可以实现± 5 µm的精确对准。对准过程通过PC上的两个摄像头进行监控。该设备被设计为可以与我们的掩膜对准器（即MAS+DIM系统）结合使用，也可以作为独立设备使用。

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