美国 Angstrom Engineering COVAP物理气相沉积平台

COVAP物理气相沉积平台

Covap physical vapor deposition PVD platform that can have thermal resistive sources

Covap PVD 平台为许多工艺应用提供了体积小、经济且又坚固耐用的解决方案。设计用于需要安全可靠的工具，并在较小的空间内生产可重复、高质量薄膜的实验室。

体积小功能强

Covap physical vapor deposition PVD platform with an open clamshell vacuum chamber

沉积源是隔离的，以减少热效应和交叉污染。Covap PVD 平台配备了一整套可拆卸的腔室屏蔽装置，确保腔室易于清洁和维护。当腔体打开时，源和平台电源以及气压都会被切断，从而确保最高级别的安全性。它可以集成到手套箱中，也可以选择独立配置。 Vacuum chamber of the covap physical vapor deposition pvd system, featuring 4 thermal resistive sources

Vacuum chamber of the covap physical vapor deposition pvd system, featuring 4 thermal resistive sources

矩形贝壳式腔室，可实现出色的可及性即使在手套箱内，材料和衬底也能轻松装载 Covap物理气相沉积平台提供了无阻碍的通道，用于移除屏蔽物、清洁和准备系统进行下一次运行可用于手套箱集成面积小600mm x 1000mm 可选择2或4源配置基于配方的先进多层控制顺序或共沉积夹具支持最大100mm x 100mm的衬底 QCM 传感器经过精心隔离，确保不会受到相邻源材料的干扰涡轮分子泵提供高真空